Intel recibe la segunda herramienta High NA de ASML para impulsar la innovación en chips

Intel está recibiendo la segunda herramienta litográfica de ultravioleta extrema (EUV) "High NA" de ASML, por valor de 350 millones de euros (383 millones de dólares), según el director general, Pat Gelsinger.

El segundo dispositivo EUV de alta NA de Intel

Intel comenzó a recibir la primera de las enormes máquinas en diciembre, que tardan meses en instalarse y se espera que permitan nuevas generaciones de chips informáticos más potentes. "El segundo dispositivo High NA está llegando a nuestras instalaciones de Oregón", dijo Gelsinger, y añadió que las inversiones tecnológicas de la empresa están "mostrando buenos indicadores tempranos".

Importancia para ASML

La introducción de la tecnología High NA es clave para el futuro de ASML como la mayor empresa tecnológica de Europa. La empresa tiene pedidos de más de una docena de máquinas High NA de los principales fabricantes de chips, como TSMC, Samsung, Intel y los especialistas en chips de memoria SK Hynix y Micron. Intel planea utilizar la tecnología en la producción comercial para 2027. TSMC, que fabrica chips para Nvidia y Apple, recibirá un dispositivo este año, pero no ha dicho cuándo lo utilizará en la producción.

Cronograma de adopción

El director general de ASML, Christophe Fouquet, dijo que los fabricantes de chips de memoria DRAM (es decir, Samsung, SK Hynix o Micron) podrían empezar a utilizar la tecnología High NA en 2025 o 2026.

Fuente: https://finance.yahoo.com/news/intel-taking-another-asmls-high-141533952.html